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심혈관계질환의 종류, 심혈관계질환의 원인, 심혈관계질환의 증상, 심혈관계질환과 고혈압, 심혈관계질환과 뇌졸중(중풍), 심혈관계질환과 식품 분석Ⅰ. 개요Ⅱ. 심혈관계질환의 종류1. 말초혈관질환(Peripheral vascular disease, PVD)1) 동맥경화증2) 동맥질환치료를 위한 수술2. 정맥성궤양(Venous ulcers)3.
14페이지 | 6,500원 | 2013.07.27
PVD 사업을 확장하고 있다. (주)우신엠에스는 2006년 180억원, 2008년 430억원의 매출을 올린 데 현재 500억에 달하는 매출을 올리고 있다.우신MS는 기술경쟁력 확보에도 전력을 쏟고 있다. 국제인증기관 DNV로부터는 ISO 9000, 14001 인증을 받았으며, 기업부설연구소 인증, 부품소재 전문기업 인증, 벤처기업 인증
7페이지 | 1,500원 | 2013.05.10
[전자재료실험] MOS Capacitor 열처리 시간에 따른 C-V I-V 특성 분석
PVD(Physical Vapor Deposition)PVD는 증착시키려는 물질이 기판에 증착될 때 기체 상태가 고체 상태로 바뀌는 물리적인 변화를 이용한 방법을 말한다. 다른 증착법과는 다르게 저온에서 간단히 박막을 증착할 수 있는데, 다음과 같이 여러 증착법이 있다. 스퍼터링(Sputtering), 전자빔 증착법 (E-beam evaporation), 열
15페이지 | 1,000원 | 2012.03.19
PVD에서와 마찬가지로 Thermal CVD의 이러한 한계를 극복하기 위한 기술로서 플라즈마의 응용이 전안되었다. 초기의 플라즈마 CVD(Plasma - assisted CVD, 이하 PECVD)는 PEPVD의 경우와 마찬가지로 특별한 도구 없이 손쉽게 얻을 수 있는 방전 플라즈마를 이용하였다. PECVD 기술은 Thermal CVD에서의 1000‘c 이상에서 가능
16페이지 | 1,400원 | 2012.03.05
PVD에서와 마찬가지로 Thermal CVD의 이러한 한계를 극복하기 위한 기술로서 플라즈마의 응용이 전안되었다. 초기의 플라즈마 CVD(Plasma - assisted CVD, 이하 PECVD)는 PEPVD의 경우와 마찬가지로 특별한 도구 없이 손쉽게 얻을 수 있는 방전 플라즈마를 이용하였다. PECVD 기술은 Thermal CVD에서의 1000‘c 이상에서 가능
16페이지 | 1,700원 | 2011.08.18
[전자재료실험] MOS capacitor 에서 Oxide층(SiNx)두께에 따른 I-V C-V curve 양상
PVD에서와 마찬가지로 Thermal CVD의 이러한 한계를 극복하기 위한 기술로서 플라즈마의 응용이 전안되었다. 초기의 플라즈마 CVD(Plasma - assisted CVD, 이하 PECVD)는 PEPVD의 경우와 마찬가지로 특별한 도구 없이 손쉽게 얻을 수 있는 방전 플라즈마를 이용하였다. PECVD 기술은 Thermal CVD에서의 1000‘c 이상에서 가능
16페이지 | 1,400원 | 2011.02.18
[화학공학]RF magnetron sputtering법으로 형성된 ZnO nanocrystals-SiO2
PVD) 기판위에 박막을 증착하기 위한 빔이나 가스의 흐름을 만들어내면서 물질을 증발시키거나 때린다.∎Chemical Vapor Deposition(CVD)가열된 기판위에서 분해되는 반응적이고, 휘발성의 화합물을 사용한다. 시작물질은 열분해되어 비 휘발성의 박막물질과 펌프로 배기시킬수 있는 기체상태로 분리된다.
16페이지 | 1,600원 | 2010.08.20
[재료공학] Thermal evaporator 실험 결과
-PVD 물리 증착법 : 시간이 적게 드는 특징이 있다. (ex : 열증착, E-beam 증착법)-CVD 화학 증착법 : 오래 걸리지만 박막을 표면에 고르게 증착시킬 수 있다.1. Thermal Evaporator의 구조 및 설명Thermal Evaporator의 설명Evaporation의 방법으로는 thermal evaporation과 e-beam evaporation 그리고 이 둘을 조합하는 방법이 있다. Ev
8페이지 | 1,200원 | 2010.07.30
Layer by layer-polyaniline(LbL) 을 이용한 HCN가스 검출 기체 센서의 개발
PVDCVD Spin Coating•균일한 층의 박막을 제조하는 값싸고 빠른 방법 중 하나이다.• 과량의 용액을 박막 위에서 고속으로 회전. 원심력을 이용하여 균일한 박막형성• 박막의 두께는 회전속도, 회전시간, 용액의 농도에 의해 결정• 안경, 반도체 웨이퍼 제조 공정에 사용Dip CoatingCoating 법- Coa
24페이지 | 2,000원 | 2010.04.04
LTPS(Low Temperature Poly Silicon) 공정
PVD 등에 의한 직접 증착결 정 화레이저 결정화→ 펄스 레이저에 의한 결정화- ELA(Excimer Laser Annealing)- SLS(Sequential Lateral Solidification)→ 연속 레이저에 의한 결정화열결정화→ 비정질 Si의 고상결정화- SPC(Solid Phase Crystallization)→ 금속촉매에 의한 결정화- MIC(Metal Induced Crystallization)- MILC(Metal Induced La
15페이지 | 1,400원 | 2010.02.10