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[반도체공학] CIGS 박막 태양전지용 박막 증착 공정 및 장비
PVD(Physical Vapor Deposition) 공정을 사용하고 있고, 이에 따른 낮은 원료 사용 효율, 비 연속식 공정 적용에 의한 생산을 수행하고 있다. 그리고 다양한 박막 제조기술이 개발되고 있지만, 아직은 일관된 표준공정이 부재해 장비산업, 소재산업 등의 주변 산업 인프라가 충분히 구축돼 있지 않다. 인듐의 경우
15페이지 | 1,400원 | 2011.09.06
[마이크로 가공생산] 아이폰 주요부품의 제조공정 및 가공법
PVD technology by eco-coating process, 창원대학교 대학원, 201020 H. L. Maynard and J. P. Meyers, 「J. Vac. Sci. Technol. B」, Vol. 20, No.4, pp. 1290, 200221 S.Iijima, Nature 354, 56, 199122 S. Iijima et al., Chem. Phys, Lett. 309, 165, 199923 J. D. Mores, Small Fuel Cells for portable applications 3rd edition proceedings, The Knowlege press Inc., Brookline, MA, pp. 113,
52페이지 | 2,800원 | 2011.08.29
PVD법에 비해 적게 들고, 넷째 여러 가지 종류의 원소 및 화합물의 증착이 가능하며, 공정 조건의 제어 범위가 매우 넓어 다양한 특성의 박막을 쉽게 얻을 수 있을 뿐만 아니라, PVD법에 비해 훨씬 좋은 step coverage를 제공한다는 점 등이다.※ CVD 공정의 단계① 원료 기체 즉, 전구체들의 반응기 내부로의
10페이지 | 1,400원 | 2011.08.18
[전자재료실험] 열처리 시간에 따른 C-V I-V 특성 분석
PVD(Physical Vapor Deposition)PVD는 증착시키려는 물질이 기판에 증착될 때 기체 상태가 고체 상태로 바뀌는 물리적인 변화를 이용한 방법을 말한다. 다른 증착법과는 다르게 저온에서 간단히 박막을 증착할 수 있는데, 다음과 같이 여러 증착법이 있다. 스퍼터링(Sputtering), 전자빔 증착법 (E-beam evaporation), 열
15페이지 | 1,400원 | 2011.08.18
C#으로 구현한 부산 지하철 최단경로,최소환승 프로그램
PvD/wB8Cj7Hbf8APvD/AN8CpqKLsLIh+x23/PvD/wB8Cqeozafpdus9xZyujPsAtrGS4bOCeVjViBx1xjp6itKqGpTavF5X9lWNjdZz5n2q8eDb0xjbE+e/pjA654LsLIo6frOialqAsIba4juWiaZUutMmt9yKVDEGRFBwXXp6ir9mdOv4Gmto4ZI1lkhJ8rGHjdkccjsysPw44rm9Dn1zXPEMOtXenadb2dsl3p4EV+8kisJtsjYMIDAtbxheVwNxOSQF4qTwdeahetd2+kadcC/1K6SRxJbzCGUPK0m95dOL7A6MgJJ5KgcEGi7CyPWbE6dqWn21/aRwyW1zEs0L+VjcjAFTgjI4I61Y+x23/PvD/wB8CqXh2xm0vw5p2nTxJE9pbpb
5페이지 | 3,000원 | 2011.06.25
[전자재료실험] MOS Capacitor SiO2 산화층 두께가 Capacitor 에 미치는 영향
PVD(Physical Vapor Deposition)증착법을 사용하기 때문에 내부는 진공상태를 유지한 채 증착을 시킨다. Thermal&E-beam Evaporator에는 E-beam과 Thermal 방법이 있는데 고융점 재료에 E-beam을 이용하게 된다. ★진공을 뽑아 주는 이유는? ★E-beam evaporator의 원리★진공을 뽑아 주는 이유는?표 1 공기의 구성성분 및 부피
10페이지 | 1,400원 | 2011.01.19
[전자재료실험] MOS Capacitor SiO2 산화층 두께가 Capacitor 에 미치는 영향
PVD(Physical Vapor Deposition)증착법을 사용하기 때문에 내부는 진공상태를 유지한 채 증착을 시키게 됩니다. PVD는 기판위에 증착재료를 물리적 mechanism에 의해 증착시키는 방법을 일컫는다. 18족 안정원소를 여기 시킴에 따라 생성되는 양성자의 충돌에너지로서 target이라고 불리는 코팅할 층을 떼어내서 기판
23페이지 | 1,800원 | 2011.01.19
[화학공학]Ar-O2 분압비에 의존하는 ZnO박막의 물리적 특성
PVD 방법과 비교되는데, CVD은 박막 증착 과정에 기체 성분들간에 화학결합이 수반된다는 점이 다릅니다. 그 중 LP(low pressure)-CVD는 진공상태에서 박막을 증착하는 방법입니다. 증착이 일어나는 공간(chamber)내를 진공상태로 만들어 대기중에 있는 공기로 인해 생길수 있는 부산물의 밀도를 낮추고 증착속
12페이지 | 1,600원 | 2010.08.20
[한의학][진단생기능의학][확회지리뷰] 심박변이도와 호흡변이도의 상관성 연구
pvd-var, R-mean이 양의 상관관계를 보였고, 심장에 대한 부교감 신경계의 활동성에 대한 지표로 활용되는 HF성분은 N-var, pvd-var와 양의 상관관계를 보였으며, 자율신경계의 전체적인 활동성을 반영하는 TP성분은 N-var, pvd-var, R-var와 양의 상관관계를 보였다. 그러나 심장박동 조절의 경우 자율신경계의 관여
5페이지 | 800원 | 2010.08.20
PVD(physical vapor deposition) 또는 CVD(chemical vapor deposition)와 같은 박막제조기술을 이용한 박막 제조가능성 여부와 적합한 전해질이 고체상으로서 또한 박막형성이 가능한지의 여부가 마이크로 배터리의 가능성을 부여하게 된다. 본고에서는 이러한 마이크로 배터리의 설계, 종류 및 응용을 다루었다. 본 론
20페이지 | 1,400원 | 2010.06.03