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PVD(physical vapour deposition), plasma enhanced CVD등의 방법으로 thin film으로 된다.보통, 일차적으로 metal film을 위해서 PVD가 쓰인다. Batch sputtering과 electron beam deposition이 ITO를 deposit하는데 사용되는 방법이다. gate electrode와 source/drain lines에 사용되는 aluminum, chromium, tantalum, molybdenum과 다른 금속들은 반자동(semi-contin
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FILE:PYOMUN.HWP목 차 1. 제목 : 열변형이 없는 표면개질 2. 서론 표면개질3. 본론 ㄱ. PVD ㄴ. 플라즈마 CVD ㄷ. 질화ㄹ. 쇼트 피닝4. 결론 전망과 의견5. 참고문헌6. 발표시 질문의 보충설명7. 사본열변형이 없는 표면 개질서 론표면 개질은 금형이나 공구 , 기계 부품 등에 많이 사용 되고 있다.불과
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PVD : Physical Vapour Deposition) 이온 스파터링법(Ion Sputtering)유리표면의 Coating기술은 매우 다양하나 현재 사용중인 제조공법으로는 열분해법과 이온 스파터링 공법으로 크게 구별된다.1) 열분해법(Pyroytic Coating)Hard Coating으로 통용되고 있으며 판유리 제조 과정중 약 370∼650℃의 유리표면 온도에서 열분해
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PVD와 같은 고체상태의 기지재료로 제조하는 것이 적합하다. 전자의 방법은 Al, Mg, Cu 등을 기지재료로 하여 가압 주조법, 교반 주조법 등으 로 제조하여 자동차 부품제조에 사용되고 있으며, 후자는 Ti 및 금속간 화합물 기지재료로서 분말야금법 또는 PVD방법으로 프리프레그 형태를 제조하여 열프레스에
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PVD(건식 진공도금)도금에 의한 표면처리로 고급품생산을 많이 하고 있음도쿄10. 9~10.11미국- 첨단기술의 접목에 의한 최신 Ti 안경(Ti을 사용한 산업용 안경 및 다양한 특수 목적용 안경 및 렌즈)을 출시하고 있음- 시장규모는 소매기준 154억불(한국산 안경테 수출은 6000~8000만불)- Ti 소재를 생산하는
17페이지 | 2,400원 | 2004.02.06