[반도체 공정] 반도체 공정중 포토 공정

반도체 소자이다. 여기서 광기전력 효과란 반도체의 p-n 접합부나 정류작용이 있는 금속과 반도체의 경계면에 강한 빛을 입사시키면 반도체 중에 만들어진 전자와 정공이 접촉전위차 때문에 분리되어 양쪽 물질에서 서로 다른 종류의 전기가 나타나는 현상이다.태양전지는 실리콘 반도체의 일종이다. 그러나 가장 큰 차이점은 회로가 아니기 때문에 포토, 식각 등의 공정이 필요없고 셀 제조과정에서의 부가가치가 반도체에 비해 떨어지기 때문에 그만

공정에 사용되는 약품이나 특수가스 및 기타재료를 식각재료라고 한다. 세정이란 웨이퍼나 평판디스플레이 표면에 반도체 패턴이나 도선 패턴 등을 형성시킬 때 금속오염물이나 입자들을 각각의 제조공정을 수행하기 전ㆍ후에 고순도의 약품을 사용하여 제거시켜주는 작업을 세정이라 하며 반도체공정에서 30 ∼ 40% 정도가 세정공정이 차지함으로 세정재료의 중요성은 지대하다 할 수 있다. 3) 포토마스크 : 석영유리판에 회로를 묘화한 회로도의 원

공정에서는 대미지 감소를 기본으로 해서 고속으로 애싱처리가 되고 잔사 및 메탈 오염을 발생시키지 않는 것이 최대의 목표이며, 부단히 신기술 개발이 진행되고 있다. 애싱공정 그 자체가 저코스트의 프로세스여야 한다는 생각이 팽배해 있어, 지금까지 신기술 개발은 그다지 본격적으로 이루어지지 않았다. 그러나 디바이스의 진보와 함께 이 프로세스가 디바이스 성능이나 신뢰성에 주는 영향을 무시할 수 없게 되었다. 바로 전 까지만 해도 반도체

반도체 공정과 다른 것은 특수한 수지를 덮어서 염색이나 가공한 칼라필터와 마이크로렌즈를 포토다이오드 위에 형성시키는 것이다. 그래서 실리콘 웨이퍼 공정을 전처리, 칼라필터와 마이크로렌즈의 공정을 후처리라 부른다.칼라필터 어레이는 CCD화소와 정확히 위치를 맞추어서 화소위의 미크론 오더로 겹쳐지게 하기 때문에 온칩 칼라필터라고 한다.(그림3.2참조) 또 그 위에 화소에 맞추어서 마이크로렌즈 어레이를 형성시킨다. IT-CCD에서는 화소중

반도체 칩 형태로 만든 것으로서, 생물학적 정보를 얻거나 생화학적 공정의 효율을 높이는 데 이용 할 수 있다. BT와 IT기술이 접목된 융합기술의 대표 격인 이 바이오칩은 특히 신약개발 프로세스나 임상진단 중에서 암이나 에이즈 같은 돌연변이 유전자를 검출하는데 사용 할 수 있어서 많은 주목을 받고 있다. 나노 크기의 바이오칩을 만들기 위해서는 정밀한 패터닝 기술이 필요한데 현재까지 사용되어 온 포토 리소그래피 방식은 비용도 많이 들고