[반도체공정]실리콘 웨이퍼 제작 공정

공정 속도는 기존 공정에 비해 10배 이상 빨라지고, 장비 단가는 50% 이상 낮출 수 있다”며 “1년에 500억 원가량의 수입 대체 효과를 거둘 수 있다”고 말했다. 이충환 동아사이언스 기자 cosmos@donga.com 전자빔 리소그래피(Lithography)반도체 집적회로 제조과정에서의 회로 패턴의 기록 방식. 전자회로가 현재처럼 집적회로로 미세화한 것은 1장의 실리콘웨이퍼(圓板) 표면에 수많은 부품을 제작 부착시킬 수 있는 기술 때문이다. 이 기술의 기본은 미세한

제 목 : 리소그래피 관련1. 리소그래피리소그래피(Lithography)는 반도체 직접회로를 만들 때 회로의 패턴을 기록하는 방식, 즉 전사(傳寫 : 배껴적음) 기법을 말한다. 고직접회로가 가능하게 된 것은 크고 복잡한 전자 회로를 아주 작은 크기로 축소하여 실리콘 웨이퍼 위에 옮길 수 있게 되면서다. 리소그래피 기본 원리는 우리가 사진을 찍는 것과 비슷하다. 우리는 카메라 렌즈를 작동시켜 큰 집과 사람과 나무를 한 장의 인화지 속에 축소하여 나타낼

반도체 제조 시 석판 기술(lithography)만을 사용하여 제작한 DRAM의 구조(a)와 나노분말을 이용하는 기계화학적 연마공정(CMP 공정)을 도입하여 제작한 소자의 구조(b)를 보여준다. 석판 기술만을 사용하면 소자제작 공정이 계속됨에 따라 표면이 점차 거칠어지는 반면 CMP 공정을 도입한 경우 일정한 배선구조를 갖는 반도체를 제작할 수 있다.나. 나노분말 복합체(고상기지 내 분산)IT 산업에는 많은 종류의 고분자 소재가 패키징, 코팅 등의 용도로 다양하게

공정을 위하여 사용되는 점액성 액체를 말하며, 빛이나 전자빔(Electron Beam)등에 의해 물질의 성질이 변하는 감광물로서 용해도에 따라 양각이나 음각의 패턴을 만들 수 있다. 특히 차세대 전자 부품 소재 산업과 전자 산업에서 중요한 소재이다.4. 광산발생제(Photo Acid Generator)빛을 받으면 화학 구조가 변해 레지스트의 물성변화를 도와주는 산을 발생하는 물질로 반도체 기판 위에 극 미세 구조 패턴 형성시 감도를 향상시키는 화학증폭 역할을 한다.출

웨이퍼당 반도체 칩수 생산성 향상 효과200mm(8인치)1991년300-400개300mm(12인치)2001년800-900개200mm대비 약2.25배 450mm(18인치)2012년경1600-1800개 예상300mm대비 약 2배 추정인 치내 용Silicon wafer의 종류추가 공정에 따른 분류Epitaxial wafer, SOI wafer, Polished waferEpitaxial waferSOI(Silicon on insulator)웨이퍼 위에 기상성장법으로 실리콘단 결정막 증착다양한 구조로 제작이 가능epi 구조는 Bipolar IC의 Isolation 및 낮은 collector 저항 성능을 개선미소결함의 발생을 억