레포트 (27)
[생산] 스테레오 리소그라피(Stereo Lithography)
스테레오 리소그라피(Stereo Lithography)1.Lithography2.Lithography 의 전체 공정3.Types of Photolithography Processes4.Stereo lithography (3차원 리소그라피)5.적용사례6.공정 방법7.장점/단점8.3D printing 과 비교Lithography 는 돌을 뜻하는 그리스어인 lithos“와 ‘쓰다’를 뜻하는 그리스어 graphein“ 의 합성어. “돌에 양식
13페이지 | 1,400원 | 2009.11.09
1. Photo Lithography리소그래피 기술의 개요2-리소그래피는 포토마스크 기판에 그려진 VLSI의 패턴을 웨이퍼 상에 전사하는 수단이다. 포토레지스트(감광성 수지)의 도포에서 시작되어 스테퍼(노광장치) 스테퍼(stepper) - p8 참조에 의한 패턴의 축소투영노광, 현상을 거쳐 포토레지스트를 마스크로 한 기판
11페이지 | 1,400원 | 2009.04.24
리소그라피 (lithography)를 이용한 반도체 신기술에 대한 연구는 정보저장기술분야에 새로운 활력소를 불어넣었다. Lithography란 STM과 AFM에 사용되는 미세 탐침을 이용하여 표면에 미세선을 긋는 것을 말하며 STM에 사용되는 미세 탐침을 이용할 경우 그어진 선의 선 폭은 대략 2나노미터로써 이를 이용하면
7페이지 | 800원 | 2016.04.16
[나노] Nano Imprint Lithography(NIL)기술의 최근 동향
리소그라피의 미세화 한계점을 극복하고 도장 찍듯이 간단하게 나노 구조물을 제작할 수 있게 된다. 또한 현재 100nm급인 미세 공정이 10nm급으로 향상돼 반도체 분야의 기술 발전이 촉진될 것으로 여겨져, 특히 차세대 반도체 및 평판 디스플레이용 회로 형성 기술로 인정되고 있기도 하다. NIL 기술은 기
20페이지 | 2,000원 | 2009.08.18