전자현미경 원리 및 시편준비

및 결정방위의 측정 등에 이용되는데, 대표적인 것으로는 주사 전자 현미경(SEM), 투과 전자 현미경(TEM)이 있다. 사용기기의 배율 및 분해능에 따라서 관찰대상 시료의 크기 및 형상이 달라지며, 또한 시료의 준비방법도 달라진다. 특히 광학 현미경 관찰에서는 시료연마 등의 준비가 잘 되어야 원하는 조직관찰의 목적을 달성할 수 있는데, 이번 실험에서는 광학 현미경을 이용한 조직검사에 대하여 살펴본다.1.2. 관련이론1.2.1. 시편① 순철 : 불순물을

현미경의 구조와 원리  SEM, TEM과 같은 전자현미경이 개발되므로서 미세조직 관찰 기술분야는 일대 혁명이 일어난 셈이다. 광학현미경에 비하여 배율, 심도, 응용 등 여러 면에서 엄청난 장점을 갖고 있기 때문이다. 따라서 전자현미경을 이용하여 보았거나 간접적으로라도 알고 있는 이들은 무조건 전자현미경으로 관찰을 하고 싶어한다. 그러나 이것은 잘못된 판단이라고 하지 않을 수 없다. 왜냐하면 시편준비, 관찰 부위선택 등이 광학현미경의 경

현미경이며, 이것으 로 금속입자의 크기, 모양, 배열을 볼 수 있다. 이뿐 만이 아니라, 금속중의 여러 가지 상과 조직을 확인할 수 있다. 금속의 조직에 미치는 열처리, 가공 및 기타 처리의 영 향, 기계적 성질과의 관계도 연구할 수 있다. 제품의 파손 분석 등 사용상의 문제점을 평가하는 경우에도 널리 사용된다. 이 실험은 이런 일련의 과정에 반드시 선행되어야 하는 시편 재작에 관한 방법을 습득하는 내용이다. 이 실험을 통해서 1) 준비된 시편 의

현미경의 구조와 원리  SEM, TEM과 같은 전자현미경이 개발되므로서 미세조직 관찰 기술분야는 일대 혁명이 일어난 셈이다. 광학현미경에 비하여 배율, 심도, 응용 등 여러 면에서 엄청난 장점을 갖고 있기 때문이다. 따라서 전자현미경을 이용하여 보았거나 간접적으로라도 알고 있는 이들은 무조건 전자현미경으로 관찰을 하고 싶어한다. 그러나 이것은 잘못된 판단이라고 하지 않을 수 없다. 왜냐하면 시편준비, 관찰 부위선택 등이 광학현미경의 경

전자가 텅스텐 표면 밖으로 투과되어 나가는 원리를 이용하고 있다.Field emission electron gun은 점원으로부터 균일한 에너지의 전자선이 얻어지므로 대단히 높은 전자선 밝기와 작은 교차점을 형성할 수 있어 고해상도를 얻을 수 있다. 1차 양극은 3~5kV의 고전압을 가하여 팁으로부터 전자를 방출하게 하고 2차 양극과 팁 사이에는 최대 30kV의 가속전압이 가해지게 된다.5)논의 및 고찰시편을 준비할 때 polishing 과 etching을 조심해서 하여야 한다. polishing을 너