[공학] TIN 박막의 기계적 특성향상 연구

향상을 이끌어냈다.2.3. ITOITO(Indium tin oxide)는 indium(III) oxide (In2O3)와 tin(IV) oxide (SnO2)의 고용체로써, 일반적으로 90wt%의 In2O3와 10wt%의 SnO2로 이루어져있다. ITO가 얇은 층일때는 투명하며 무색이지만, 벌크 형태일때는 노란색에서 회색을 띤다. 적외선 영역에서는 금속 거울의 특성을 나타낸다. ITO는 전기 전도성을 가진 투명도전막으로 많이 쓰이지만, 인듐의 매장량이 한정되어 있기 때문에 비쌀 뿐만 아니라 유연성이 낮아 쉽게 깨지고 박막을 증착하는

박막 혹은 유전체와 유전체의 혼합박막들을 쉽게 떠올릴 수 있는데, 필요에 따라 전도도, 흡광계수, 굴절율, 결정성 등의 물성을 조성물질의 혼합비 조절에 따라 바꾸어 줄 수 있다. 이와 같은 혼합박막들은 일종의 비평형상으로써 구성물질들의 물성과 전혀 다른 특성을 나타낼 수 있다. 가장 잘 알려진 다층박막의 예로써 굴절율이 높은 물질과 낮은 물질을 수십에서 수백층까지 교대로 쌓는 광학 간섭필터가 있으며, 최근 많이 연구되고 있는 초격자(s

연구팀은 또 그래핀이 집적도 및 처리속도가 한계점에 다달은 실리콘 반도체를 대체할 수 있을 것으로 예상했다. 그래핀은 기존의 실리콘 보다 100배 이상 전자를 빠르게 이동시킬 수 있기 때문에 발열량이 작고 간단한 나노패터닝 공정을 통해 반도체 특성을 조절할 수 있어 실리콘 기반 소자가 가지는 여러 가지 문제를 해결할 수 있다. 그래핀 반도체를 생산하기 위해서는 그래핀 박막을 단층으로 만들 수 있는 기술이 필요한데 연구팀은 촉매 및 반응

연구, 개발이 필요할 것으로 예상된다. 특히 산화물 반도체 내부에 존재하고 있는 결함을 어떻게 최소화 할 것인가가 관건이라고 생각된다. 비교 고온에서의 후처리를 통해 결함 농도를 감소시켜 왔지만 이제는 박막 형성 단계에서부터 어떻게 고품질의 박막을 얻을 수 있는가에 포커스를 맞추어야 할 것으로 보인다. 또한 산화물 반도체 재료의 전기적, 구조적 강성을 높이는 전략이 필요할 것으로 예측 된다. 이를 위해서 Hf, Al, Si 과 같은 원소들의 최

특성, 균일한 박막두께의 제어, 잉크젯 헤드의 기계적인 정밀도 제어 등이 있다.잉크젯 헤드 면에서는 다양한 잉크의 사용, 정확한 위치의 제어성, 잉크 방울의 흐름속도, 확산속도 등의 제어가 요구된다. 특히 노즐로부터의 방울의 위치 제어성, 친수성 및 소수성을 이용한 박막의 정말도 향상, baking 조건 등은 균일한 박막 뿐만 아니라 외부에서 가해준 전기장에 의한 균일한 휘도를 얻기 위한 필수 요소기술이다.다. LITI(laser induced thermal imaging) 방법