특허출원공개제도와 심사청구제도

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본문내용
출원공개제도
출원인의 신청에 의하여 또는 특허출원 후 1년 6개월 경과 후
특허청에 계속 중인 출원을 심사와 관계없이 일반에 공개하는 제도
중복투자 및 중복 출원 방지, 기술 이용 기회 제공
출원 공개의 대상은 출원 공개 시점에 특허청에 계속 중인 특허출원
출원 중인 발명을 제3자 침해 시 조기 공개 신청, 경고장 발송, 실시료 청구
출원공개 후 서면경고 이후 보상금청구권 행사
국제출원
우선심사제도
특허출원인 아닌 자가 업으로 출원된 발명을 실시하는 경우
긴급처리가 필요하다고 인정되는 경우(대통령령이 정하는 특허출원)
- 방위산업분야의 특허출원
- 공해방지에 유용한 특허출원
- 수출촉진에 직접 관련된 특허출원
- 국가 또는 지방자치단체의 직무에 관한 특허출원
- 벤처기업의 확인을 받은 기업의 특허출원
- 국가의 신기술개발지원사업 또는 품질인증사업의 결과물에 관한 특허출원
- 조약에 의한 우선권주장의 기초가 되는 특허출원
- 특허출원인이 특허출원된 발명을 실시하고 있거나 실시준비중인 특허출원
- 전자거래와 직접 관련된 특허출원
심사청구제도
심사 청구가 있는 출원에 대해서만 심사하는 제도
무가치한 출원에 대한 심사로 인한 비용 증가 등을 방지하기 위한 제도
특허청에 계속 중인 출원은 출원일로부터 5년 이내 심사청구 가능
우선심사란 특정출원을 청구순서에 관계 없이 우선하여 심사하는 것
전자거래와 직접 관련된 대통령령이 정하는 특허출원만 우선심사
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