리소그래피1

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본문내용: 1. 리소그래피
리소그래피 [ Lithography ]
집적 회로 제작 시 실리콘칩 표면에 만들고자 하는 패턴을 빛으로 촬영한 수지를 칩 표면에 고정한 후 화학 처리나 확산 처리하는 기술. 이 기술의 핵심은 짧은 파장의 빛을 사용하여 정밀도를 높이는 것으로, 처음에는 가시광선, 자외선을 사용했으나 최근에는 전자 빔을 사용해 더 미세한 패턴을 만든다.
리소그래피(Lithography)는 반도체 직접회로를 만들 때 회로의 패턴을 기록하는 방식, 즉 전사(傳寫 : 배껴적음) 기법을 말한다. 고직접회로가 가능하게 된 것은 크고 복잡한 전자 회로를 아주 작은 크기로 축소하여 실리콘 웨이퍼 위에 옮길 수 있게 되면서다.
리소그래피 기본 원리는 우리가 사진을 찍는 것과 비슷하다. 우리는 카메라 렌즈를 작동시켜 큰 집과 사람과 나무를 한 장의 인화지 속에 축소하여 나타낼 수 있다. 마찬가지로 구조가 크고 복잡한 회로의 설계 패턴을 웨이퍼라는 인화지 위에 모양 그대로 그러나 크기는 아주 작게 옮겨 나타낼 수 있다. 마찬가지로 구조가 크고 복잡한 회로의 설계 패턴을 웨이퍼라는 인화지 위에 모양 그대로 그러나 크기는 아주 작게 옮겨 나타낼 수 있다.
직접도가 높지 않았던 초기에는 사진처럼 빛을 이용하는 광 리소그래피였다. 그러나 빛을 이용하는 광학현미경으로는 작은 것을 들여다보는 데 한계가 있기 때문에 전자현미경을 사용하는 것처럼, 집적도와 축소율이 높아짐에 따라 최근에는 빛보다 파장이 짧은 X선이나 전자빔을 사용하는 X선 리소그래피와 전자빔 리소그래피를 이용해서 반도체 만드는 것을 연구하고 있다.
출처 : 한국의 월드 베스트 : 세계 1위 메이드 인 코리아, 반도체
나노 수준의 회로 제작 기술, 전자 펜 나노 리소그래피 | 신재료와 나노기술 2005/09/07 22:56
http://blog.naver.com/denselit/140017094242
브룩헤븐(Brookhaven)의 전자 연필(Electro Pen)은 나노기술의 개발에 상당한 영향을 미칠 것으로 예상된다.
미국의 에너지성의 브룩헤븐 국립 연구소(Brookhaven National Laboratory)의 연구원들은 새로운 화학적인 방법으로 전자회로에 회로를 그리는 기술을 개발했다. 이는 수십 나노미터 넓이의 잉크 라인을 그릴 수 있다.
그들의 새로운 기술은 나노 수준의 패턴과 표면현상을 연구하는 분야에 많은 새로운 가능성을 열었다고 할 수 있다. 이러한 기술은 나노 기술분야에서 특히 나노 패터닝이나 분자 전자 소자에서 단분자를 이용한 유기 분자 회로를 만드는 기술에 획기적인 영향을 미칠 것이라고 브룩헤븐 연구소의 물리학자인 카이(Yuguang Cai)는 말했다.
Cai는 8월 28일 일요일 미국 워싱턴 디시의 르네상스 호텔에서 열린 230회 미국 화학회에서 개발된 기술을 발표했다. Cai와 그의 공동 연구원들은 이러한 기술을 전자 펜 나노 리소그래피("Electro Pen Nanolithography"(EPN))라고 명명했다. 그들은 매우 작은 금속 탐침을 유기 분자 박막 위를 지나가게 만듦으로써 가능하게 했다.

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