[자연과학] 결정질 실리콘 태양전지 제조공정

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본문내용
결정질 실리콘 태양전지 제조공정

1. 전지의 일반 제조 공정
입사광선의 표면 반사율을 줄이고 빛의 수광 효율을 향상시킬 수 있도록 웨이퍼 표면을 처리하는 공정이 표면 구조화(surface texturing) 공정이다. 이 공정이 끝나고 난 후 POCl3나 인산을 이용하여 p형으로 도핑되어 있는 실리콘 웨이퍼에 n형 layer를 형성 시켜서 pn접합을 만든다. 도핑 후에 표면의 패시베이션 및 반사도 감소를 위해서 반사방지막을 코팅한다. 보통 질화막이나 산화막이 반사방지막 및 패시베이션 막의 역할로써 웨이퍼 위에 증착된다. 프린트 방식을 이용하여 100 마이크로미터 내외의 폭을 갖는 금속 전극을 형성한 후 급속 열처리를 통해 오믹 접촉을 이룸으로 태양전지를 완성한다.

참고문헌
[1] 이준신, 김경해, 태양전지공학(2007)
[2] 산업자원부, 산재생에너지 RD&D 전략 2030 [태양광] (2007)
[3] THE KOREAN INFORMATION DISPLAY SOCIETY, 2009년 제 10권 제 5호
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