[재료공정공학] Sputtering 기법을 이용하여 Y2O3 제작

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목차
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1. 서론

2. 현행 기술조사

2.1. Sol – Gel Prosess

2.3. 화염 분무 열분해법을 이용하여 제조

3. 새로운 제조방법 제시

3.1. Sputtering이란?

3.2. Sputtering을 이용한 1.1. 제조의 장점

4. 개발시 발생 가능한 환경 오염 및 공정상의 안정성

5. 기술의 응용성 및 전망 - 경제성 검토

6. 참고문헌

본문내용
1.1. 화염 분무 열분해법을 이용하여 제조

1.1.1. 화염분무열분해법의 이용목적

나노사이즈 입자는 고상 분쇄와 같은 전통적인 방법으로는 제조하기 힘들어 액상법, 기상법 등의 방법이 많이 이용되고 있다. 액상법으로는 마이셀을 이용하여 반도체 나노입자들이 제조된 바 있고, 기상법으로도 나노미터 크기의 금속이나 금속산화물이 제조된 바 잇다. 액상법은 기상법보다 유지하지만 많은 양의 계면활성제나 분산제를 사용해야 하므로 불순물이 많이 들어가는 단점이 있다. 이에 반해 기상법은 불활성기체 내에서 전구체를 분해하므로 이물질이 들어갈 확률이 적어 고순도의 분말제조에 적합니다. 다만, 기상법에서는 전구체를 선정할 때 증기압이 높아야 하는등의 제약조건이 많다. 이에 반해 기상법 중에서 분무 열분해법은 전구체 선정에 거의 제한이 없다는 장점이 있다. 즉 물이나 알코올 등의 일반용매에 녹는 금속염이 존재하는 한 모든 종류의 입자를 제조할 수 있다.

1.1.2. 국내외 기술개별 현황

1.1.2.1. Gas Condensation Process

나노 입자들을 제조하기 위해 원자나 분자들은 증기로 바뀌어 나노 크기의 클러스터로 응축된다. 이런 증기는 고순도의 물질을 기화시켜 발생시킨다. 이렇게 나노입자를 제조하는 방법을 기상 응축 공정이라 부른다. 에너지 원으로는 열, 레이저나 전자빔을 사용하며 이러한 공정은 불활성가스로 차있는 감압반응기에서 이루어진다. 원료에서 증발된 금속 원자들은 기상에서 nucleation 과정을 통해서 클러스터를 형성하고 이 클러스터들은 기상에 있는 원자들과 충돌하여 성장하게 된다. 이 때 클러스터의 크기는 입자의 체류시간에 비례하고 또한 기체 압력, 불활성
참고문헌
1. 참고문헌

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