레포트 - 박막트랜지스터, 발광다이오드, 나노센서

나노튜브, 용매 바인더등 5개 이상으로 구성된 성분의 코팅액 제조필름에 코팅으로 투명전극 제조기존의 ITO대체 가능단가절감Page  *국내 이건웅 박사가 개발 ‘탄소나노튜브(CNT) 투명전극 제조용 일액형 코팅액 제조 및 활용 기술’은 탄소나노튜브, 용매, 바인더, 안정제, 균일제 등 5개 이상으로 구성된 성분들을 포함하는 하나의 코팅액을 제조해 활용하는 신기술이다. 비닐이나 플라스틱 등에 페인트칠 하듯 이 용액을 바르면 박막에 전기가

나노 메모리, 투명 디스플레이, 차세대 태양전지 등에 적용할 계획이라고 밝혔다.Figure 6-1 대량의 패턴화된 그래핀 필름의 합성 및 전환과정6.2 얇은 두께의 투명한 그래핀 필름 개발미국 루이터대학의 연구원들이 단일 원자 두께의 탄소 시트 그래핀으로, 2-3센티미터 넓이에 1-5나노미터 두께의 투명한 그래핀 필름을 개발하였다. 이는 향후 구부리고 휘어지는 얇은 필름 박막 트랜지스터나 유기태양전지를 위한 투명하면서 전도성의 전극으로 사용

나노기술이 우선적으로 적용될 것이다. 본 연구에서는 이러한 바탕 위에 3개의 세부 과제를 설정하였다. 첫째는 광통신산업 부분에서 신소재/공정 기반의 Photonic IC 제작, 초고속 광통신 대역 양자점 VCSEL 면발광 레이져 다이오드로써 송신 모듈에 사용되는 chip이다.array module 과, 둘째는 반도체 산업과 관련하여 기능성 나노 전자소자 및 회로 응용기술에 대해서 그리고 마지막으로 휴대용 전원장치 관련하여 고성능 이차전지 나노 전극재료에 대해서 세

박막 트랜지스터 등을 저가로 제작할 수 있는 방법이 된다.NIL은 다양한 전자 소자, 저장 매체, 광 소자, 바이오 센서 등의 제작에 적용 가능함이 이후의 연추를 통해 밝혀져 왔다. (그림 1-2)는NIL을 이용하여 제작된 다양한 형태의 패턴을 보여준다.(2). 나노임프린트 리소그래피의 기술 이슈NIL은 나노스케일의 추조를 저가로 생산할 수 있는 가능성에도 불구하고, 실제 산업체에서 채택되는 기술로 발전하기 위해서는 해결해야 할 많은 문제점을 가지고

나노위클리164호 Lux Research사, 2010년 나노기술장비 시장 10억 2천5백만 달러 예측5나노위클리274호 ‘BCC 보고서, 2013년 세계 나노기술 시장 270억 달러 예측’ 6 Weinverger, D. A., Hong, S., Mirkin, C. A., Wessels, B. W., and Higgins, T.B., Combinatorial Generation and Analysis of Nanometer- and Micrometer-Scale Silicon Features via Dip-Pen Nanolithography and Wet Chemical Etching, Adv.Mater., 12, 1600, 2000.7 Mirkin C. A., Hong, S., and Demers, L. Dip-Pen Nanolithography:Controlling Surface Architecture on the Sub-100 Nanometer Len