OTFT(Organic Thin Film Transistor) 실험결과

결과 25MeV에서 보다 5keV에서의 current drop이 크게 나타났으며 또한 lower fluency에서 보다 Higher fluency 에서의 current drop이 더 큰 것을 확인 할 수 있다. 이 이유는 다른 장치와 비교하여 HEMT는 2DEG(Conducting layer)가 매우 얇기 때문에 High energy irradiation에 어느 정도 저항성을 가지고 있어서이다. 2) AlGaN/GaN HEMT irradiated with 17MeV proton AlGaN/GaN HEMT irradiated with 17MeV protonHong-Yeol Kim, Jihyun Kim, Sang Pil Yun, Kye Ryung KIM, Travis J. Anderson , Fan Ren and S. J. Pearton이 실험의 대략적인

Organic Electroluminescent Devices”, Science, Vol. 273, pp. 884-888, American Association for the Advancement of Science, 1996.11. J. H. Schon, S. Berg, Ch. Kloc, B. Batlogg, Ambipolar Pentacene Field-Effect Transistors and Inverters, Science, Vol. 287, pp. 1022-1023, American Association for the Advancement of Science, 2000.12. Wendy U. Huynh, Janke J. Dittmer, A. Paul Alivisatos, Science, Vol. 295, pp. 2425-2427, 2002.13. Patrick Baudelaire, and Gunther Haas, Thomson, France, 2003. 12. (발표자료)14. OLED Displays, Stanford Resources Inc, 2003.15. Maycock, PV News 2004. 3.16. C

thin films with high sheet resistance.It causes injection barrier to be high on this junction, and has led to a weak current. By modifying the nature of the graphene, it increases surface work function, and reduces sheet resistance.High work function allow it to easily inject the hole into organic phase in spite of high hole injection barrier on junctions between organic layers and anode graphene.4sub pixel designWe have advantages by adding cyan color sub pixel to existing RGB OLED.It leads to remarkable extension of blue life time and increases entire efficiency of OLED.ITO 양극을

실험 결과 및 토의이번 실험은 반도체관련 수업이 처음인 저로서는 도움이 많이 되었던 실험이었다. 이번 oled제작실험은 glass 세척법, spin coater사용법, evaporation하는법 및 oled기초 이론등 여러 가지를 배웠던것 같다. 사실 실험 자체는 조교님께서 많이 주관하시고 기계를 이용하여 자동화가 많이 되어있었기 때문에 별 어려움을 느끼지는 못하였지만 첫시간에 ITO glass가 상당히 지저분한 상태였기 때문에 결과가 좋지는 못하였던것 같다. glass를 다룰때

filmtype으로구분한다.일반적인thinfilmprocess에서는반응성(sensitivity, contrast 등)의 우수함으로 인해 AZ 계열의 positive liquid PR을 사용한다. 그러나 특수한 경우, 예를 들어 cyan type gold plating 공정에 있어, CA(chemical amplification;화학증폭) type의 negative PR을 사용하기도 한다. Thin film HIC 공정에서는 resistor patterning 등에는 positive PR을, 도금 공정에는 negative PR을 사용한다. 또한 liquid type의 일반 PR이 아닌 film type의 dry film을 사용하기도 하며 이 경우 spin coating 대신 laminati