레포트 (533)
충북대학교병원 22~23년 신규간호사 채용 면접 질문+답변+병원&간호부 정보 총정리
ICP상승환자에게 해줄 수 있는 간호는 무엇인가요? ICP 증상은 심한 두통, 투사성 구토 유두부종입니다. / 서맥, 혈압 상승의 증상을 관찰하며 30도 반좌위를 취해줍니다. 경부의 과도한 굴곡은 금지하고 복압이 올라가지 않도록 교육합니다. 배변 시 힘을 줄 수 있어서 관장이나 하제는 금지하고 조용한
11페이지 | 4,000원 | 2023.07.01
A+보장 subarachnoid hemorrhage 지주막하 출혈 간호진단5개 간호과정3개 (완전꼼꼼)
ICP control 위해 cerol 주입 중임.11. Lt arm IV site swelling(+) tenderness (+)12. 시술위치 Lt. Head(HV remove 1point suture)감염 사정함13. 혈액 검사 결과 염증 수치 상승함. (5/1)ESR0~20mm/hr98▲CRP0.1-0.8 mg/dl2.2seg neutro50-75%78.6▲lymphocyte20-44%11.3▼14. GCS 사정: Eye-2점, verbal-4점, motor-5점 = 11점(중등도 뇌 손상)15. 조기이상
32페이지 | 3,000원 | 2023.06.18
ICP상승함2) 척수(Spinal cord)(1) 구조와 기능① 척추관안에 위치하며, 길이는 약 45cm, 굵기는 손가락 정도② 피질은 백질, 수질은 회백질로 구성③ 기능- 전근: 하행자, 운동 정보 전달- 후근: 상행자, 감각 정보 전달④ 척수의 전도로반사궁에서 자극→ 감각신경(상행로)→ 척수→ 운동신경(하행로)→
23페이지 | 2,500원 | 2023.04.27
A++자료입니다)성인간호학 실습, 신경계 사전학습, 신경계병동 사전학습, 신경계 정리, NS 사전학습, 신경계 병동 검사, 신경계 간호
신경계 병동 사전학습목차⑴신경계 병동에서 주로 시행하는 검사(cerebral angiography , MRI, MRA, CT, EEG, lumbar puncture, transcranial doppler)⑵뇌압상승 시 증상 및 치료, 간호(ICP monitoring, 뇌압조절약물요법 및 부작용관리) ⑶EVD(extra ventricular drainage), lumbar drainage 간호⑷마비환자 간호⑸피하주사(간이혈당측정
17페이지 | 2,500원 | 2023.04.27
모성간호학, 임신성고혈압, 임신성고혈압 간호, 임신성고혈압 약물, 임신성고혈압 정리
ICP상승으로 인한 대뇌국소빈혈야기포도당용액과 혼합하지 않고 말포신경염이나 저무딘감각 시 피리독신을 추가로 투여한다.C등급Tenormin(Atenolol)PO50mgβ1차단으로 인한 혈압강하제태반관류의 감소와 연관되어 자궁내사망, 미숙분만, 조숙분만야기신생아의 저혈당증이나 서맥의 위험성졸음으로
4페이지 | 2,000원 | 2023.04.27
ICP를 낮추기 위함)- Rt(5) 주요 약물요법: 항생제, 진통제, 수혈, 혈압강하제, 인슐린 및 혈당강화제, 거담제, 스테로이드제제, 삼투성이뇨제, 혈전용해제 등.약물명/용량상품명(화학명)투여경로투여목적(약리작용, 부작용)※ 환자의 증상과 연관하여 작성0.9% N/S 1000ml/1bag 이노엔 정맥내 투여(IV)100
18페이지 | 3,000원 | 2023.03.28
ICP 등의 다양한 장비를 동원하여 미지시료 분석을 시행하였습니다. 그러나 두 달이 넘게 지나도 뚜렷한 원인을 찾을 수가 없었습니다.어느 날, 다른 회사에서 제공되는 염화칼슘 성분에 소량 첨가된 수산화칼슘을 확인하였고, 이를 호기심에 흡습제에 첨가해보았습니다. 놀랍게도 수산화칼슘을 첨가
8페이지 | 3,000원 | 2023.02.17
ICP): This is a high-density plasma source that uses an RF electromagnetic field to generate a plasma in a gas. ICP sources are commonly used in applications such as semiconductor manufacturing, plasma processing, and materials synthesis.Capacitively coupled plasma (CCP): This is a low-pressure plasma source that uses a capacitor to generate a plasma in a gas. CCP sources are commonly used in ap
31페이지 | 3,900원 | 2023.02.16
ICP): 이것은 RF 전자기장을 사용하여 가스에서 플라즈마를 생성하는 고밀도 플라즈마 소스입니다. ICP 소스는 일반적으로 반도체 제조, 플라즈마 처리 및 재료 합성과 같은 응용 분야에서 사용됩니다.CCP(Capacitively Coupled Plasma): 커패시터를 사용하여 가스에서 플라즈마를 생성하는 저압 플라즈마 소스입
33페이지 | 5,000원 | 2023.02.16
(영문자료-그림자료16개 추가) 플라즈마의 모든 것, 레포트 하나로 끝내자.
ICP): This is a high-density plasma source that uses an RF electromagnetic field to generate a plasma in a gas. ICP sources are commonly used in applications such as semiconductor manufacturing, plasma processing, and materials synthesis.Capacitively coupled plasma (CCP): This is a low-pressure plasma source that uses a capacitor to generate a plasma in a gas. CCP sources are commonly used in ap
40페이지 | 5,000원 | 2023.02.16