레포트 (25)
[화학공학] 오존수와 고체산(sol-gel법)을 이용한 웨이퍼 세정
제목: 오존수와 고체산(sol-gel법)을 이용한 웨이퍼 세정 문제제기: .기존 RCA법의 요염물 다량 배출(H202, DI water 및 HCl)기존 RCA법에서 고가 운영비(과산화수소 처리공정, 높은 온도유지).반도체가 점점 작아지면서 미세한 오염물 제거의 필요성지표면 오존의 심각성(오존주의보)목표웨이퍼 세정에서 파
24페이지 | 2,100원 | 2008.06.27
[화학공학] 오존수와 고체산(sol-gel법)을 이용한 웨이퍼 세정
오존수와 고체산 (Sol-Gel 법)을 이용한 Wafer 세정The contents of presentation문제제기- 목 표- 반도체 웨이퍼 세정공정- RCA법의 원리와 문제점- 1단계 : 고체산 세정 공정- 2단계 : 오존수 세정 공정- 공정 평가 및 분석- 결론Group No. 14 문제 제기Group No. 14 - 반도체의 집적도 증가에 따라 미세 오염물 제거
32페이지 | 2,400원 | 2008.06.27
[화학공학실험] 졸겔법 예비 레포트 -Sol-Gel법을 이용한 SiO₂ 및 TiO₂제조
SOL-GEL 법을 이용한 SIO₂ 및 TIO₂제조1. 실험 목적Sol-Gel법은 유리와 세라믹스를 제조하는 새로운 접근방법을 제시해 준다. 졸을 형성하게 되는 분자단위의 전구체(molecular precursor)를 사영하면 고체상의 망목이 수화-축합(hydroxylation-condensation)반을을 통해 얻어진다. 따라서 무기중합에 관계된 화학반은을
12페이지 | 1,400원 | 2005.10.13
화학공학실험(실험6 sol-gel법을 이용한 sio2, tio2 제조)
법(1) SiO2 nano powder 제조n 시료 다음 도표와 같이 정량 종 류분 자 량사용 몰 수 TEOS208.30.134EtOH155.940.516H₂O181.346HCl170.004n 삼구플라스크에 에탄올을 넣고 TEOS 를 천천히 넣어준다.※ TEOS 는 공기중에 산소(혹은 물)과 반응성이 있으므로 가능한 빠르게 처리한다.n 합성용액을 급격히 교반하며
6페이지 | 800원 | 2005.04.29