2.이론적 배경
1)etching : 금속표면의 침식작용에 의거 금속을 그 표면으로부터 분리 제거하는 처리기술을 etching 이라고 한다. 즉, 금속재료를 전기 물리적 또는 화학용해 작용을 이용하여 금속 일부분을 침식제거 하는 것을 말한다. 단상 결정립의 화학적인 반응은 결정학적 방위에 따라 차이가 있어 etching 후 grain boundary을 즉 작은 홈(groove)를 관찰할 수 있다.
1-1) wet etching : 금속등과 반응하여 부식시키는 산계열의 화학 약품을 이용하여 thin flim layer의 노출되어 있는 부분을 녹여 없애는 것이다.
참고문헌
네이버 지식백과
William D. Callister, DAVID G. RETHWISCH 저. 재료과학과 공학. 시그마프레스
움직이는 CPU나 메모리를 만들 수 있다.현재 다양한 종류의 광연산소자가 개발되어 있으며, 빠르면 10년내 순수하게 빛으로 움직이는 슈퍼 컴퓨터도 등장할 전망이다. 광연산소자는 나노 기술을 이용한 첨단 광결정소재를 이용한다◦ 필 터- 특정 주파수의 신호만 추출하기 위해 쓰여지는 것이 필터다．이것에도 세라믹 필터와크리스탈 필터가 있다．특징은 진동자의 특징과 같지만 특성이 좋은 크리스탈 필터는상당히 고가인점이 단점이다.
금속조직을 관찰한다. 각종 재료로 제조된 부품의 외관 결함은 용이하게 발견할 수 있으나, 내부결함은 찾아내기가 용이하지 않다. 국산부품과 외산부품을 비교하면 외관은 동등한 수준이나, 수명 및 성능의 차이가 있다고 흔히 얘기되고 있는데 이 이유는 재료의 내부구조 즉 미세조직의 차이에 기인하는 것이라 알려져 있다. 일반적으로 재료의 제반 성질은 그 미세 조직과 밀접한 관계를 가진다. 즉 어떤 재료의 미세조직을 현미경으로 관찰하면 석
이용해 물질의 미세구조를 측정하는 장치이다. 물질의 미세한 구조를 관찰할 필요성을 느낀 스위스 취리히 소재의 IBM연구원이었던 게르트 비니히(G . Binning)와 하인리히 로러(H . Roher)에 의해 1982년 개발되었다.현미경에는 광학 현미경과 전자 현미경이 있는데, 1981년에 주사 터널링 현미경이 개발되어 응용 범위를 넓히게 되었다. 맹인은 손가락의 촉각에 의지해 머릿속으로 하나의 상을 만든다. 주사 터널링 현미경도 이와 비슷한 원리로 작동한다. 예
주사전자 현미경을 이용한 이미지 관찰 실험(전복껍데기와 손톱의 미세구조)과제의 배경 주사 전자 현미경(EDS장착)SEM(Scanning Electron Microscope)은 주사전자 현미경으로 재료의 미세조직과 형상을 관찬하는데 매우 유용하게 사용되는 분석기중 하나이다. 기존의 광학현미경은 분해능(Resolution)이 0.2 ㎛가 한계였다. 즉, 두 점 사이가 0.2 ㎛보다 클 경우에만 구별이 가능하다는 뜻이다. 이는 우리 일상에서는 매우 작은 크기이지만 재료의 미세구조를
재료공학 기초 실험 - 광학현미경 조직검사 및 시편준비목 차1. etching이란 무엇인가?2. 광학현미경의 이론3. 실험결과4. 토의사항 및 문제5. 논의 및 고찰6.참고 문헌1. etching이란 무엇인가?Etching의 기본 목적은 광학적으로 Grain크기, 상 등의 미세조직을 관찰하기 위한 과정이다. etching은 화학조성 응력 결정구조 등에 따라 방법이 다른데 가장 일반적인 방법은 화학부식 방법이며 목적에 따라 용융염방법, 전해부식, 열 및 plasma 부식 방법 등이 쓰인다
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hwp (아래아한글2002)
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