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[화학공학]Ge RF sputtering power에 의한 zn2GeO4 박막의 구조적, 광학적 특성(영문)
power1215. In particular, sputtering power has a large influence on the composition and crystal quality of Zn2GeO4 films.We report the effect of the Ge sputtering power on the optical and structural properties of Zn2GeO4 thin films grown by RF magnetron sputtering. Zn2GeO4 thin films were grown by co-sputtering the Ge and ZnO targets with the varying power of Ge at a fixed power of ZnO. Phot
6페이지 | 800원 | 2010.08.20
[화학공학]Ge RF sputtering power에 의한 zn2GeO4 박막의 구조적, 광학적 특성(영문)
powerSputtering power has a large influence on the composition and crystal quality of MgxZn1−xO films.Experimental detailsMgxZn1−xO films were grown on GaN/sapphire (0001) substratesUsing a RF magnetron sputtering systemIn a high vacuum (>5×10−6 Torr) chamberThe ZnO (4 in., 99.9999%) and MgO (4 in., 99.9999%) targetsCo-sputtered by the gas mixture of high purity argon and oxygen-
15페이지 | 1,600원 | 2010.08.20
Carrier Sence Multiple Access/Collision Avoidance-무선LAN에서 일반적으로 사용되는 MAC 알고리즘작동원리수신단 송신단CTS송신단 수신단DATA전송수신단 송신단ACK송신단 수신단RTS*송신측에서 CTS를 받지 못하면 일정회수 만큼 RTS를 보낸다음, 그래도 CTS를 받지 못하면일정시간을 대기한후 다시 RTS를 보냄8.
26페이지 | 800원 | 2019.05.14
LG,삼성대기업_외국계 PT합격 경력서_이력서_업무_경험
RF Power/Pressure/Gas 조성 Tuning 진행 : Etching Uniformity 5.7%3.5%(4) 공정수 단축 PRP 공정 삭제 양산 평가 진행(8ea)完 양산 적용 完진행 Project & 개선 사항 ( LED Fab공정 )4) 수율 관련 1) Scratch 수율 개선 : Recipe Tuning & H/W 구조 개선을 통한 최적화 진행 ⓐ 고압 Pump Spray Nozzle 분사(N2압)+고압 Pump Sprayⓑ Pump
15페이지 | 6,000원 | 2020.06.25
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