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[박막공학] 화학적 기상 증착법(Chemical Vapor Deposition,CVD)(친절한 설명과 핵심적인 내용을 논문 형식으로 작성)
법 중에서 무엇보다도 CVD(Chamical Vapor Deposition)가 가장 널리 쓰이고 있다. CVD란 증착될 물질의 원자를 포함하고 있는 기체상태의 화합물을 이 기체가 반응을 일으킬 수 있는 환경을 갖는 반응실로 유입하여 화학적 반응에 의해 기판 표면 위에서 박막이나 에피층을 형성하는 것이다. 반응온도는 100 ~ 1200
11페이지 | 2,000원 | 2008.12.20
CVD?∘ 광 화학반응을 이용∘ 저온 공정∘ 램프 광CVD와 레이저 광CVD으로 분류저온공정이었던 플라즈마 CVD법에서 발생하던 결점(고 에너지이온에 의한 하부기관의 손상 등)을 보완광 CVD법은 큰 면적의 경우 램프 광 CVD와 레이저 광 CVD로 분류되고 있다.소스가스의 광분해를 보여주는 그림*su
10페이지 | 1,200원 | 2012.05.29
박막공학 설계 Report광 CVD를 이용한 HfO2 MOSFET 제조1. 이론적 배경✶ 광 CVD :광 CVD는 박막을 형성시킬 때 열에너지뿐만 아니라 광 에너지에 의한 광화학반응을 이용하는 방법으로 막 형성 온도를 큰 폭으로 저하시킬 수 있으면 또 광 에너지 자체가 반응가스를 분해시킬 수는 있으나 이온을 발생
6페이지 | 500원 | 2012.05.29
법박막의 제조방법에는 음극 전해 성막법, 무전극 또는 무전기 성막법, 양극 산화법, CVD법 , 액상 에피탁시법, Langmuir-Blodgett 막 형성법, 흡착 방법이 있다1-1)음극 전해 성막법성막될 물질이 보통 금속일 경우,이 물질이 이온의 형태로 녹아 있거나,어떤 액체 속에 섞여 있는 것을 사용한다. 그 용액이나
7페이지 | 1,500원 | 2013.12.23
CVD법 등으로 SiH4 같은 원료가스를 분해해서 유리기판이나 필름 기판 상에 실리콘 박막을 퇴적해서 제조한다. 박막 실리콘의 종류로는 비정질 실리콘과 미세결정 실리콘이 있다. 비정질 실리콘 태양전지는 결정 실리콘 태양전지에 비해 밴드갭이 커서 흡수가능한 범위의 태양광 최대파장이 짧아져 변환
23페이지 | 2,100원 | 2009.07.23
[화공생물공학 종합설계] CNT 대량생산 공정의 타당성 분석
법에는 아크방전법(Arc-discharge), laservaporization법, HiPCO법(high pressure carbon monoxide), 화학 기상 증착법(chemical vapor deposition: CVD), 열분해법 등이 있다. 아크방전법은 초기에 탄소나노튜브 합성에 사용되었던 방법으로 두개의 탄소막대를 음극과 양극에 배치하고 방전에 의해 전자가 양극의 탄소막대에 충돌 후
31페이지 | 2,300원 | 2011.02.18
법으로 마그네트론 스퍼터링 법을 사용하였다. 우수한 기계적 특성, 내식성과 내마모성을 갖는 TiN 코팅은 주로 CVD법에 의존하였으나 반응가스에 의한 오염과 600도 이상의 고온처리에 따른 모재의 변형등의 문제로 현재 마그네트론 스퍼터링법을 주로 사용한다. 따라서 이번 설계에서도 TiN박막 증착에
8페이지 | 1,100원 | 2011.11.21
CVD법을 이용한 성장 기술도 동일한 상황이다. 금속성 나노튜브가 혼합된 상태로 탄소나노튜브로 구성된 전자소자를 배열한 집적소자를 만들었을때, 이론적으로 33%에 달하는 개별소자의 결함이 예측되는 실정이다. 이와 같은 상황에 대처하기 위하여 자체보상을 할 수 있는 새로운 개념의 Architecture가
7페이지 | 800원 | 2015.06.27
반도체 물성 과제-박막 증착(Deposition)의 방법2001006283이충현박막 증착의 종류CVD ModelPVD ModelALD Model화학 기상 증착법(CVD)1.정의 열의 분해과정 및 기체 화합물의 상호작용에 의해 기판의 표면에 박막을 형성하는 증착법.2.종류저압 화학 기상 증착 (Low Pressure CVD, LPCVD) 플라즈마 향상 화학 기상 증
20페이지 | 1,000원 | 2009.10.14
[재료공학] Thermal evaporator 실험 결과
-PVD 물리 증착법 : 시간이 적게 드는 특징이 있다. (ex : 열증착, E-beam 증착법)-CVD 화학 증착법 : 오래 걸리지만 박막을 표면에 고르게 증착시킬 수 있다.1. Thermal Evaporator의 구조 및 설명Thermal Evaporator의 설명Evaporation의 방법으로는 thermal evaporation과 e-beam evaporation 그리고 이 둘을 조합하는 방법이 있다. Ev
8페이지 | 1,200원 | 2010.07.30