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Nano Imprint Lithography(NIL) 나노 임프린트 리소그래피
공정상의 한계가 생기기 마련이며, 이에 따른 막대한 비용문제도 발생하게 된다. 반면, 이번에 소개할 나노 임프린트 리소그래피(Nano Imprint Lithography)는 열 또는 UV를 소스(source)로하여 레지스트(resist)의 유동성을 이용해서 나노 사이즈의 패턴을 전사하는 방법으로 기존의 Deep UV, EUV, X-ray를 사용한 방법
19페이지 | 1,800원 | 2009.08.29
[나노] Nano Imprint Lithography(NIL)기술의 최근 동향
공정 시간이 짧은 장점을 지니고 있어서 차세대 유망 발전 기술로 주목받고 있다. 이 공정은 크게 두 가지 부분으로 나누어지는 데, 첫째로 나노크기의 형상을 레지스트(resist)에 복제하는 공정인 임프린트 공정이 있고, 둘째로 임프린트 공정 후 남은 잔여층(residual layer)을 제거하는 패턴 트랜스퍼(Pattern
20페이지 | 2,000원 | 2009.08.18
공정장비 연구센터장 이응숙(李應淑47) 박사는 “현재 반도체 미세회로 제작에 쓰이는 광 리소그래피 기술을 대신할 수 있는 ‘자외선 나노 임프린트 리소그래피 기술’을 개발했다”고 15일 밝혔다. 이 기술은 1996년 미국 프린스턴대 연구팀이 제안한 것으로 경제적으로 나노 구조물을 제작할 수 있
6페이지 | 800원 | 2016.04.16
LBDQ질문지를 통해 자신의 리더십 유형을 찾아보고 블래이크와 모우튼의 이론에 근거하여 자신의 리더십유형의 개발방향을 설명해보
공정성, 인내심, 겸손성, 용기, 열정, 책임, 신뢰성 등이 윤리 리더십의 주요 요소다. 즉 윤리적 리더는 특별한 경우를 제외하고 부하에게 특별한 대우를 해서는 안 되며 차별이 발생할 경우 합리적인 이유가 있어야 한다고 강조했다. 또 윤리적으로 이상적인 지도자가 되기 위해서는 성실하고 정직함을
6페이지 | 2,500원 | 2023.03.14
[인쇄정보공학] Nano Imprint 기술의 현황과 전망
Nano ImprintContentsNano imprint 란?Nano imprint 분류Nano imprint 공정나노 Patterning스탬프Nano Imprint 장비Nano Imprint 기술의 응용요약 및 전망나노 임프린트란?Nano 분말인 Nano Imprinting lithography는 Nano scale의 초미세 pattern의 전자회로배선을 형성시킨 기술이다. 기술적으로는 매우 단순한데, 요철을 만드는 방법과
17페이지 | 1,200원 | 2010.03.31
[법학과 3학년] 1 근대 영국의 법사상가 홉스(Thomas Hobbes)의 ‘사회계약론’과 ‘자연법과 실정법’
: 인간사랑. 맹주만 (1999). 칸트와 루소의 공동체론. 한국칸트학회편. 『칸트와 그의 시대』. (pp. 258-304). 서울: 철학과현실사.장 자크 루소 (2011a). 『사회계약론』. (김중현 옮김). 서울: 임프린트 펭귄클래식 코리아. C. B. 맥퍼슨 (2002). 『홉스와 로크의 사회철학』. (황경식, 강유원 옮김). 서울: 박영사.
7페이지 | 6,000원 | 2021.04.13
임프린트 리소그래피 공정 개발 관련업체 기술이전 11월중 상용화 예정▲ 나노임프린트공정에 의해 임프린트된 50nm 선 패턴 ⓒ 50nm급 선폭의 나노패턴을 경제적으로 제작할 수 있는 기술이 국내에서 개발됐다.과학기술부(부총리 겸 장관 오명)의 21세기 프론티어연구개발사업 나노메카트로닉스기
14페이지 | 1,000원 | 2016.04.16
공정이 가능할 것으로 예상되어 활발한 기술개발이 이루어지고 있으며, 미세선폭 22nm이하의 더 높은 집적도 구현을 달성하기 위해 전자빔, 극자외선 및 나노 임프린트법 등 새로운 개념의 기술이 활발히 연구되고 있다. 최근 5년간 차세대 리소그래피 관련기술 특허출원동향최근 5년간 차세대 기술관
10페이지 | 800원 | 2016.04.16
나노크기 구조물 제작 나노크기 구조물 개요 나노크기 구조물 제작 방식 나노크기 구조물 필요성 나노크기 구조물 조사 나노크기 구조물 연구 나노크기 구조물 분석 나노크기 구조물 개요
임프린트 단계:몰드를 이용하여 레지스트를 물리적으로 변형시키는 단계패턴전이 단계: RIE를 이용한 단계몰드의 재료 : PMMA현재까지 6nm 크기의 구조물을 만들 수 있다고 보고 되었으며, 나노구조물의 상업화 최대걸림돌인 원가 문제를 해결할 실마리를 제공하고 있다.Nano imprint lithographyReference▷
26페이지 | 1,000원 | 2015.03.29
공정의 소개1) TFT 제작 공정2) 컬러 필터 CF(Color Filter) 공정3) CELL 공정4) 모듈(Module) 공정3. TFT-LCD 제조 공정 개선 사항(특허 및 기술)과 효과(비용)● 제조 공정 개선을 통한 비용 절감1) Mask 수 감소화2) 나노 임프린팅 공정3) 잉크젯 프린팅 공정 4) PI 코팅을 위한 인쇄법 ● 소재 변경으로 비용 절감
24페이지 | 2,500원 | 2013.11.22
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- Hayt의 전자기학 9판 - 2장 연습문제 솔로션 Engineering electromagnetics 9th - chapter 2
- Hayt의 전자기학 9판 - 3장 연습문제 솔로션 Engineering electromagnetics 9th - chapter 3
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