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산화공정(Oxidation)열 산화법은 산화층 내부와 SiO2/Si 계면에 결함을 거의 생성시키지 않는 방법으로서 우수한 특성의 절연막을 형성시킬 수 있는 기술이다. 이 기술은 산화 반응에 사용되는 기체의 종류에 따라 건식 산화(dry oxidation)법과 습식 산화(wet oxidation)법으로 구분되는데, 반응기체로 순수한 산소
10페이지 | 1,400원 | 2011.08.18
산화공정(Oxidation)열 산화법은 산화층 내부와 SiO2/Si 계면에 결함을 거의 생성시키지 않는 방법으로서 우수한 특성의 절연막을 형성시킬 수 있는 기술이다. 이 기술은 산화 반응에 사용되는 기체의 종류에 따라 건식 산화(dry oxidation)법과 습식 산화(wet oxidation)법으로 구분되는데, 반응기체로 순수한 산소
9페이지 | 700원 | 2012.03.19
[반도체] RIE(Reactive Ion Etching)
습식 산화 제거에 의한 산소 또는 수소 plasma 처리 Inorganic Material LabYonsei Univ.RIE DamageImpurity penetration (implantation, diffusion)Lattice damageDopant loss or loss of dopant activitySurface roughnessGate oxide breakdown Mobile ion contaminationPost-RIE corrosionInorganic Material LabYonsei Univ.Deep RIE process flowDeep RIE process of Pyrex glass using SF6
39페이지 | 2,800원 | 2010.04.26
산화시키는 방법으로 전기로 보다 훨씬 낮은 온도인 약 150°C에서 회화가 진행된다. 습식법은 식품내의 유기물들을 산 또는 산화제를 사용하여 산화시키는 방법으로 특수 원소 분석의 전처리 단계로서 건식법보다 선호도가 높다. 하지만 시간이 오래 걸리고 조작이 복잡하다는 단점이 있다.회화시 유
6페이지 | 700원 | 2006.10.29
산화물 – 개별적인 트랜지스터들 사이에서 절연 장벽의 역할4. Barrier 산화물 – 소자와 실리콘을 보호패드 산화물, 주입막 산화물 등Si (solid) + O2(gas) Heat.750 ~ 1200 ℃SiO2 (solid) 온도가 증가 반응률이 증가건식산화Chemical reaction & Growth Model습식산화Si (solid) + 2H2O (gas) Heat.750 ~ 1200 ℃SiO2 (solid) + H
20페이지 | 1,800원 | 2010.04.26
산화막으로 나눌 수 있다. 이런 다양한 오염물들을 제거하기 위해서 웨이퍼는 각각의 오염물들을 효과적으로 제거하기 위한 여러 가지 세정 용액을 혼합하여 일괄 처리 공정으로 세정된다.현재 반도체 공정에서 사용하는 습식 세정 공정은 1970년대 개발된 RCA 세정 방법을 근간으로 화학액의 조성에 큰
7페이지 | 800원 | 2010.01.27
습식가스미터에서 읽은값), ℓT=습식가스미터의 온도, ℃ Pa=대기압, mmHgPm=습식가스미터게이지압, mmHg Pv=각온도에서의 물의 수증기압, mmHg5. Result#4. 황산화물 측정. 표1시료채취시 조건배출가스 온도(℃)120피토우관 계수0.85평균동압(mmHg)210중력가속도(m/sec)9.81평균정압(mmHg)-5배출가스 수분량(
10페이지 | 800원 | 2010.12.22
습식이 있는데 건식이라 함은 공기를 사용해서 분리시키는 방법으로 전기나 자기를 이용해서 분리시킨다. 습식이라 함은 석탄과 잡물을 분리시키기 위하여 물로 씻는 방법인데 불순물 등이 대량 제거된다. 이때 사용되는 방법이 부상(flotation)방법이다. 즉 이 방법에서 석탄 원광을 약 1cm의 크기로 만들
3페이지 | 1,000원 | 2012.09.27
[화학공학] 이산화탄소흡수(Gas Absorption Column)
산화탄소를 회수하는 대표적인 기술이다. 이는 배출가스 중의 이산화탄소와 아민 용액을 접촉시켜 이산화탄소만 녹여낸 뒤 다른 반응기에서 열을 가하여 순수한 이산화탄소를 회수하는 방법이다. 이때 사용하는 흡착제는 습식재생성이며 이산화탄소를 잡아먹고, 열을 가하면서 털어주면 이산화탄소
8페이지 | 1,100원 | 2011.11.02
세메스 면접 최종합격자의 면접질문 모음 + 합격팁 [최신극비자료]
산화를 목표로 설립한 00는, 선진반도체 강국의 입지에 걸맞는 파트너로서의 위상을 갖추기 위하여 어려운 시장 환경 속에서도 지속적인 기술 개발을 위한 투자를 지속하였으며, 이러한 회사의 방향성을 잘 아는 것이 회사생활에서 중요합니다!29. 기업의 사회적 책임에 대해 어떻게 생각하는가?전
34페이지 | 9,900원 | 2023.11.23