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리소그래피 Lithography 집적 회로 제작 시 실리콘칩 표면에 만들고자 하는 패턴을 빛으로 촬영한 수지를 칩 표면에 고정한 후 화학 처리나 확산 처리하는 기술. 이 기술의 핵심은 짧은 파장의 빛을 사용하여 정밀도를 높이는 것으로, 처음에는 가시광선, 자외선을 사용했으나 최근에는 전자 빔을 사용
12페이지 | 1,000원 | 2016.04.16
리소그래피(lithography)리소그래피(lithography)란 마스크라 불리우는 미리 작성된 원본의 패턴을 작업물 위에 사진 전사하는 것을 의미한다. 특별히 미세 패턴을 형성하는 리소그래피의 경우 접두어 micro를 붙여 microlithography라 부른다. 이러한 리소그래피의 용도 중 가장 대표적인 것으로 반도체 집적회로
7페이지 | 800원 | 2016.04.16
리소그래피 (Lithography)집적 회로 제작 시 실리콘칩 표면에 만들고자 하는 패턴을 빛으로 촬영한 수지를 칩 표면에 고정한 후 화학 처리나 확산 처리하는 기술. 이 기술의 핵심은 짧은 파장의 빛을 사용하여 정밀도를 높이는 것으로, 처음에는 가시광선, 자외선을 사용했으나 최근에는 전자 빔을 사용해
4페이지 | 800원 | 2016.04.16
리소그래피(Lithography) 개념: 집적회로를 만들 때 중요한 부분에 사진기술이 사용된다. 실리콘칩 표면에 만들고자 하는 부품의 패턴을 빛으로 촬영하고 그것이 감광된 수지 를 칩 표면에 고정한 후 화학처리나 확산처리를 하는데 이를 총칭하여 리소그래피(lithography)라 한다. 이 기술의 핵심은 짧은 파
3페이지 | 800원 | 2016.04.16
반도체 제조 장치 중 리소그래피 장치━━━━━━━━━━━━━━━━━━Ⅰ. 리소그래피 기술의 개요Ⅱ. 리소그래피 기술의 응용Ⅲ. 리소그래피 장치의 분류Ⅳ. 장치의 실제 예ⅰ. 웨이퍼 트랙ⅱ. 스테퍼ⅲ. 드라이에칭 장치ⅳ. 애싱 장치리소그래피 기술의 개요12 - 리소그래피는 포토마
13페이지 | 3,000원 | 2004.08.12
1. 리소그래피리소그래피 Lithography 집적 회로 제작 시 실리콘칩 표면에 만들고자 하는 패턴을 빛으로 촬영한 수지를 칩 표면에 고정한 후 화학 처리나 확산 처리하는 기술. 이 기술의 핵심은 짧은 파장의 빛을 사용하여 정밀도를 높이는 것으로, 처음에는 가시광선, 자외선을 사용했으나 최근에는
10페이지 | 800원 | 2016.04.16
제 목 : 리소그래피 관련1. 리소그래피리소그래피(Lithography)는 반도체 직접회로를 만들 때 회로의 패턴을 기록하는 방식, 즉 전사(傳寫 : 배껴적음) 기법을 말한다. 고직접회로가 가능하게 된 것은 크고 복잡한 전자 회로를 아주 작은 크기로 축소하여 실리콘 웨이퍼 위에 옮길 수 있게 되면서다. 리소
14페이지 | 1,000원 | 2016.04.16
[나노기술] 리소그래피의 종류와 문제점 및 해결 방안 -Nano Imprint Lithography
1. 서론지난 30년간 리소그래피 기술은 반도체 소자의 발전과 더불어 광 투사 리소그래피(Optical Projection Lithography) 기술을 중심으로 지속적인 발전을 거듭하였다. 그리하여 지금 193 nm의 광 투사 리소그래피를 이용하여 100 nm 이하의 선 폭을 형성할 수 있는 수준에 이르렀다. 그러나 반도체 기술은 앞으로
28페이지 | 2,100원 | 2006.09.25
Nano Imprint Lithography(NIL) 나노 임프린트 리소그래피
1. 서론최근 반도체칩의 집적도는 무어의 법칙 (Moores Law)를 넘어서 지난 26년간 용량은 3200배 정도로 증가했다. 다시 말해 고(高)메모리의 수요가 증가함에 따라 반도체 디바이스의 집적화가 요구되고 이른바 ‘나노 시대’가 도래하였다. 기존의 리소그래피(Lithography) 기술은 나노 사이즈의 패턴을 기
19페이지 | 1,800원 | 2009.08.29
포토리소그래피(Photolithography) ⅰ) 포토리소그래피(Photolithography)란?Photolithography 공정은 어떤 특정한 화학약품(Photo resist)이 빛을 받으면 화학반응을 일으켜서 성질이 변하는 월리를 이용하여, 얻고자 하는 patten의 mask를 사용하여 빛을 선택적으로 PR에 조사함으로써 mask patten과 동일한 patten을 형성시키
5페이지 | 1,500원 | 2013.12.23
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