[화학공학] 나노공정(nano imprint lithography)

< 개 요 >제목 : TFTLCD 제조공정 개선에 따른 원가절감 방안1. 개요 : 프로젝트의 목적과 개요와 목적2. TFT-LCD 제조 공정의 소개1) TFT 제작 공정2) 컬러 필터 CF(Color Filter) 공정3) CELL 공정4) 모듈(Module) 공정3. TFT-LCD 제조 공정 개선 사항(특허 및 기술)과 효과(비용)● 제조 공정 개선을 통한 비용 절감1) Mask 수 감소화2) 나노 임프린팅 공정3) 잉크젯 프린팅 공정 4) PI 코팅을 위한 인쇄법 ● 소재 변경으로 비용 절감1) Oxide TFT 재료4. 결론 : “TFT-LCD 제

공정의 생산성 증가- 잉크와 기판의 반응성 고려 불필요4. 원가 절감 공정 및 효과 – PI 코팅배향막이란?4. 원가 절감 공정 및 효과 – PI 코팅인쇄법(Printing) 도입의 필요성4. 원가 절감 공정 및 효과 – PI 코팅기술동향4. 원가 절감 공정 및 효과 – Oxide TFTTFT의 종류 및 종류별 특징4. 원가 절감 공정 및 효과 – Oxide TFTa-Si TFT 구조 Oxide TFT 구조TFT 종류별 Mask 수 및 공정단계 비교4. 원가 절감 공정 및 효과 – Oxide TFTTFT 종류별장비 Capex5. 결론나노

나노노광기술DIP-PEN 나노노광기술DPN(dip-pen nanolithography)은 실리콘이나 고체 기판위에100nm 이하의 패턴을 만들때 사용되는 새로운 패터닝 기술이다.원자력 현미경(AFM)팁에 티올(thiol)과 같은 유기물질을 잉크처 럼 묻혀서 직접 글을 쓰듯이 패턴을 만들 수 있다.유기물 분자들 은 화학흡착을 통해 기판에 잘 부착되어 안정된패턴을 만들게 된 다.나노각인 노광기술(NIL:nano imprint lithography)나노각인 노강기술은 감광제가 빛의 조사에 의하여 화학작용

공정2) 종류v나노 각인 리소그래피(NIL, NanoImprint Lithography)v마이크로 접촉 인쇄 (μCP, MicroContact Printing)v복사조형(REM, Replica Molding)v마이크로 전사 조형 (μTM, Microtransfer Molding)3)소프트 리소그래피의 장점 및 단점v장점 v저렴한 제작비v표면에 다양한 화학적 성질을 가진 패턴 형성 가능v다양한 재료에 적용v유사 3차원 구조물 제작 가능v비평면 표면에 구조물 및 패턴 생성 가능v100nm 장벽 극복( 크기가 30 nm~500 μm 사이의 형상 또는 구조물 제작 가능 )v

나노 패터닝하는 E-DPN기술은 트랜지스터, 다이오드 혹은 센서 같은 나노사이즈의 전기적장치에 중요한 요소로 꼽힌다. 이는 상업적으로 높은 응용은 아직 널리 쓰이고 있지는 않지만 lab-size의 nano생성물에 많이 쓰인다. 당장의 상업적 응용은 다량생산의 어려움이나 비용 등의 이유로 현실적으로 어렵다. 하지만 미래 기술에 대한 잠재능력으로 본다면 21세기에 화공생명공학과에서 화두가 되고 있는 biotechnology에 대한 응용이 용이 하고 polymer나 반도체