[화학공학] Sol -Gel 법을 이용한 SiO₂및 TiO ₂제조

나노 파우더- 목 차 - 1. 나노 파우더란?1) 나노의 정의2) 이 주제를 선택한 배경2. 제법1) 물리적 제조법(1) 기계적 합금화(2) 가스 증발 응축법2) 화학적 합성법(1) 기상 합성법(2) 액상 합성법(3) 고상 합성법3. 응용분야1) 나노 입자와 이들의 응집체 제조 및 응용2) 고분자 나노 복합체의 응용3) 금속/세라믹 나노 복합재4) MEMS5) 생체 의료용 응용4. 전망5. 참고 문헌1. 나노 파우더란? 1) 나노의 정의10억분의 1(10-9) 미터 수준의 물질 혹은 소자를

및 불순물 산란을 야기 시켜 투과율과 전기 전도도에 영향을 미치기 때문이다.1.5. 박막의 가공에 적용된 기술ITO박막의 제조방법으로는 1)전자빔 증착법, 2)CVD법, 3)sol-gel법, 4)DC, RF 스퍼터링법 등이 있으며 어떤 방법을 이용하는가에 따라 제작조건과 물리적 특성이 달라진다. 그 중에서 스퍼터링법은 미세조직과 박막의 조성 조절이 용이할 뿐만 아니라 기판과 박막의 접착성이 뛰어나며 융점이 낮은 재료도 기판으로 사용할 수 있다는 장점을 가지고

법에서는 연마 공정이 필요하지 않고, 중력과 표면장력의 작용으로 평탄도가 우수한 대형 판유리 제조가 가능하게 된다. 원하는 두께의 판유리를 얻기 위해서는 유리 용융물을 인위적으로 잡아당기거나 수축시키면 된다.현재 float 법에 의해 가장 많이 제조되고 있는 판유리는 건축용 및 자동차용 판유리로 이용되고 있는 소다 라임 유리이다. 따라서 소다 라임 유리는 기판 유리로 가장 높은 가격 경쟁력을 가지고 있다. 그러나 PDP 제조 공정의 대부분

제조과정에 CMP(chemical mechanical polishing)를 사용해 표면을 평면화하는 단계를 첨가해야 한다. 이 이름이 암시하듯이 평면화(planarizing)공정은 부분적으로는 본질적으로 (염기성 용액을 사용하는)화학적 작용이고 부분적으로는 연마할 수 있는 현탁액을 사용하여 층을 기계적으로 연마하는 작용이다. CMP는 NaOH 용액에서 미세한 SiO2 입자의 현탁액을 사용해서 이루어진다. 회절에 의해 제한된 기하구조에 대한 표현식은 왜 X-ray와 전자빔을 사용한 사진석판공

SiO2을 사용한다, 마지막으로 우리가 설계한 c축으로 배향된 ZnO을 활성 층으로 사용하여 전체적으로 투명한 반도체 소재를 설계하여 항공기 조종사용 디스플레이로 활용 가능토록 할 것이다.Reference1) Sol-gel 법으로 제작한 Al-doped ZnO 박막의 도핑 농도 및 열처리 온도에 따른 광학적 및 전기적 특성/ 2007년 5월 전자공학회 논문지 제 44 권 SD 편 제 5 호/ 신현호,강성준,윤영섭2) Zinc oxide - A Material for Micro- and Optoelectronic Applications (NATO Science Series, Ⅱ. Mathematics